中国中微芯片如何？
中微的等离子激元光刻确实处于世界先进水平，但是要说领先美国那倒是未必（至少在媒体上没见过美国这方面的报道）。但是国内这架势真不像是能搞出什么大突破的样子。。。 先说说PILKA吧，这是中微最新的一款装备，可以说代表了目前中国最高的光刻技术水平了。在极大规模集成电路上方面，它可以直接制造出2.36nm节点以下的高质量芯片（这里说的是直接做芯片不是刻器件）。而且因为光场是由波长很小可调的激光器产生，所以可以做全波长电路——这一点和美国是相同的（美国用13.5nm 准分子激光），而日韩都是做深紫外IC的，这方面和欧美一样，都是做超分辨力IC而不是等价能量谱 IC。
但是在商业化方面，PILKA就远远不如国际同行了——不仅设备价格高（据说一套要数千万美元）而且产率低。而且由于技术基础的问题，该方法并不能大量生产复杂IC，而仅仅是能做几个样片而已。
至于等离子激元这个技术本身，应该说是有前途的，但问题是对工艺和器件的设计要求非常严格（比如不能有太多凸点、也不能太厚）否则就不能把IC做大。另外，从工艺流程来看，它需要经过光子能量沉积到材料表面，然后再通过电子束进行选区刻蚀两个步骤才能完成，因此不能像光刻干涉仪那样直接得到IC结构，而是需要通过IC工艺与光物理结合来实现IC结构。
总体来说这项技术在理论上是可行的，但是如果想要实现商业化的目标还要走很长的路。 再说加贺照人的等值线刻蚀法，这种技术是日本对外保密的。据说采用等值线的方法可以在晶体上刻下任何形状的图形，并且可以实现纳米尺寸的沟槽深度测量。在中国这个领域里，中科院光电所也是国内数一数二的了。他们今年来抢了不少风头，不知道明年会不会被人赶超……